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NSC-3000 (M) 磁控溅射系统
不锈钢腔体RF、DC溅射RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗预真空锁以及自动晶圆片上/下载片 NSC-3000(M)磁控溅射系统带有水冷或者
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磁控溅射系统NSC-4000 (M)
基板支持加热(最高可达800°C)或冷却支持旋转GLAD斜角入射沉积腔体尺寸可定制1.5-5KW脉冲之流电源用于ITO/ZnO等类似材料 NANO-MASTER的溅射系统可构建成多腔体和多
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NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统
不锈钢腔体RF、DC溅射RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗 NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到
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NSC-1000 磁控溅射系统
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NSC-4000 (A) 全自动磁控溅射系统
RF、DC溅射热蒸镀能力RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗 NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到
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磁控溅射仪SD-900M
高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 SD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。一般针对不耐高温的
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ETD-900M磁控溅射仪
离子溅射仪外观亮丽做工精致磁控溅射是物理气相沉积的一种。ETD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备
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MagSput 磁控溅射系统
技术参数:磁控溅射系统标准配置真空腔: 不锈钢箱型真空腔,前开门上安装一个4英寸观察窗真空系统: 涡轮分子泵组,配前级旋片泵和各种阀门接头等,可获得10-7Torr的真空。真空读出电路: 数字式全
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NSC1000-NSC10000PEG浓缩脱水装置
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土壤墒情监测系统价格
土壤墒情监测系统价格1⊙技术参数★ 主控制器技术参数·数据存储空间:≥100000条·记录间隔:1分-24小时可调·数据传输:无线传输·工作环境:-30℃~80℃·供电方式:220v市电
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